鈦靶材是一種用于真空鍍膜的材料，主要成分是鈦（Ti）。鈦是一種非常常見的金屬元素，在地殼中的豐度僅次于氧、硅和鋁。鈦的物理和化學性質使其成為一種理想的材料用于真空鍍膜，因為它具有很高的熔點、良好的化學穩(wěn)定性和機械性能，以及優(yōu)異的光學和電學性能。在真空鍍膜過程中，鈦靶材被放置在真空腔室中，然后被加熱和氬氣等惰性氣體轟擊，使其蒸發(fā)并沉積在基底上，形成薄膜。

真空鍍膜常用的鈦靶材料通常為高純度的金屬鈦。其主要成分為純度達到99.99%以上的鈦金屬。此外，還可能添加一定量的其他元素或化合物，以調節(jié)其性能和使用效果，例如，可以添加氮、氧、碳等元素或化合物，以改善鍍膜的耐磨性、抗反射性能、光學性能等。