硅窗口片可分為鍍膜和不鍍膜兩種，根據(jù)客戶的要求加工，它適合用于1.2-8μm區(qū)域的近紅外波段。因為硅材料具有密度小的特點（其密度是鍺材料或硒化鋅材料的一半），在一些對重量要求敏感的場合尤為適用，特別在3-5um波段的應用。硅的努氏硬度為1150，比鍺硬，沒有鍺易碎。然而，由于它在9um處有強的吸收帶，因此并不適合用于二氧化碳激光器的透射應用。
硅(Si)窗口片是使用近紅外和部分中紅外波長范圍應用的理想選擇。硅材料熱傳導率高、密度低，使之適于激光反射鏡。但是，硅在9 μm時吸收強，它不適于二氧化碳激光透射應用。硅光學元件也特別適于成像、生物醫(yī)學和軍事應用。激光器與硅光學元件一起使用時，可以提供一些輸出波長。 硅能夠透射的光波長范圍從1.2 μm到8.0 μm，在4.58 μm處折射率是3.423。
硅窗口片主要規(guī)格：
| 材料: | 硅（Si） |
| 尺寸公差: | +0.0, -0.1mm |
| 厚度公差: | ± 0.1mm |
| 光潔度: | 60/40(可定制) |
| 有效孔徑: | >85% |
| 面型: | λper 25mm@633nm |
| 平行度: | 3' |
| 倒角: | <0.25mm X 45° |
| 鍍膜: | 可定制 |
掃一掃