真空鍍制光學(xué)薄膜的基本工藝過程是清潔零件、清潔真空室/裝零件、抽真空和零件加溫、膜厚儀調(diào)整、離子束轟擊、膜料預(yù)熔、鍍膜、鍍后處理、檢測。 上述工藝流程中每一步驟的完成質(zhì)量，都會影響到膜層的質(zhì)量。

光學(xué)薄膜器件的制造是在真空室內(nèi)進行的，同時膜層的生長又是一個微觀過程，而我們目前能夠直接控制的卻是一些與膜層質(zhì)量有間接關(guān)系的宏觀因素的宏觀過程。

即便如此，人們還是通過長期堅持不懈的試驗研究，找到了膜層質(zhì)量與這些宏觀因素之間的規(guī)律性關(guān)系，成為指導(dǎo)薄膜器件制造的工藝規(guī)范，對于制造質(zhì)量優(yōu)良的光學(xué)薄膜器件發(fā)揮著重要的作用。